韓國設備商Sunic System日前推出了一款全新的基于精細金屬掩膜蒸鍍（evaporation-FMM）的AMOLED系統，其可實現高分辨率，Sunic表示其可實現2250 PPI。Sunic的新技術采用面源作為蒸鍍OLED材料，而非當前采用的線源。如此高分辨率顯示屏對于VR應用十分有價值。

    Sunic System日前宣布，其通過采用新型面源蒸鍍和100μm蔭罩成功實現了1.1μm陰影距離，而如此小的陰影距離可實現1000至1500 PPI分辨率。公司的下一步目標是將陰影距離縮減至0.37μm，從而可實現2250 PPI和11K高分辨率移動AMOLED屏。

    面源技術是將OLED發光材料沉積在金屬板上，反轉該金屬板后通過加熱來垂直地蒸發材料。這使得相當薄且高分辨率的FMM成為可能，進而可用于生產高分辨率OLED。

    這種新技術的另一個優點是可沉積高密度（200 PPI）大尺寸OLED。目前FMM自身的襯底尺寸有限，企業需要在OLED沉積前對襯底進行切割。